Quartz Wafer အလွှာ

• မြင့်မားသောသန့်ရှင်းမှု-ယေဘူယျအားဖြင့် ဓာတု quartz (ဥပမာ၊ ပေါင်းစပ်ထားသော ဆီလီကာ) ဖြင့် ပြုလုပ်ထားသောကြောင့် အလွန်မြင့်မားသော သန့်စင်မှု (99.99%) ထက်ကြီးသည် သို့မဟုတ် ညီမျှပြီး စက်ပစ္စည်း၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို မထိခိုက်စေရန် အညစ်အကြေး အနည်းဆုံးဖြစ်သည်။
• အပူပိုင်းတည်ငြိမ်မှု-အပူချိန်ချဲ့ထွင်မှုနည်းပါးသော (≈0.55×10⁻⁶/ ဒီဂရီ) နှင့် မြင့်မားသော-အပူချိန်ခံနိုင်ရည် (ပျော့ပြောင်းသည့်အချက် ~1600 ဒီဂရီ)၊ မြင့်မားသော-အပူချိန်လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။
• Optical Performance-ကျယ်ပြန့်သော ထုတ်လွှင့်မှုအကွာအဝေး (UV to IR)၊ ထူးခြားသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် ထုတ်လွှင့်မှု၊ ဓာတ်ပုံမျက်နှာဖုံးများ၊ မှန်ဘီလူးများ စသည်တို့အတွက် အကောင်းဆုံး
• Chemical Inertness-အက်ဆစ်နှင့် အယ်ကာလီများကို ခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း (ဟိုက်ဒရိုဖလိုရစ်အက်ဆစ်မှလွဲ၍) စိုစွတ်သော ခြစ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။
• လျှပ်စစ်လျှပ်ကာHigh resistivity (>10¹⁶ Ω·cm)၊ insulating substrates သို့မဟုတ် high-frequency devices များအတွက် အကောင်းဆုံး။

• ကုန်ကြမ်းပေါင်းစပ်မှု-အငွေ့ထွက်ခြင်း (ဥပမာ၊ SiCl₄ ဓာတ်တိုးခြင်း) သို့မဟုတ် သဘာဝ quartz ၏ သန့်စင်မှုမှတစ်ဆင့် ထုတ်လုပ်သည်။
• အရည်ပျော်ခြင်းနှင့်ဖွဲ့စည်းခြင်း-မြင့်မားသော-အပူချိန် အရည်ပျော်ခြင်းနောက်တွင် ချောင်းများထဲသို့ အအေးခံခြင်း သို့မဟုတ် ချောင်းများအဖြစ် တိုက်ရိုက်ဆွဲခြင်းတို့ဖြင့် လုပ်ဆောင်သည်။
• ဖြတ်တောက်ခြင်း-စိန်ဝိုင်ယာလွှများ သို့မဟုတ် လေဆာဖြတ်တောက်ခြင်းများကို အသုံးပြု၍ ပါးလွှာသော wafer များအဖြစ် လှီးဖြတ်ပါ။
• ကြိတ်ခြင်းနှင့် ပွတ်ခြင်းဓာတုစက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပွတ်တိုက်ခြင်း (CMP) သည် နာနိုမီတာ-အဆင့် ချောမွေ့မှုကို ရရှိသည်။
• သန့်ရှင်းရေးနှင့် စစ်ဆေးရေး-အမှုန်အမွှားများနှင့် သတ္တုညစ်ညမ်းမှုများကို ဖယ်ရှားပြီးနောက်တွင် အပြစ်အနာအဆာနှင့် ကန့်သတ်စစ်ဆေးမှုများ ပြုလုပ်သည်။

hot Tags:: quartz wafer substrate, China quartz wafer substrate ထုတ်လုပ်သူ, ပေးသွင်းသူများ, စက်ရုံ